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超高真空形 TG-MUシリーズ

  • 超高真空形 TG-MUシリーズ

超高真空形ターボ分子ポンプ TG-MU シリーズの特長

 

  • 超高真空環境下では、残留ガスの多くは水素などの軽ガスです。軽ガスの排気性能を向上することにより、より良い真空環境が得やすくなります。
  • 初期排気で良い真空環境を得ることができれば、残留ガスが少ない状況で製造加工プロセスが実施でき、製品の品質が向上します。

 

用途

・スパッタリング装置、分析・試験装置等
・高性能な半導体、電子部品等の開発・製造
・加速器、放射光施設、核融合研究等


仕様

外観寸法図

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性能曲線

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コントローラ

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