振動を大幅に低減したTG-MLシリーズ

半導体製造は、より「微細化」「高集積化」へと進んでいます。同時に、分析、測定、検査工程も「高精度化」「高性能化」が要求されています。
微細加工や、微小領域の測定、分析を行うためには、制御技術が向上しても、装置が振動しては意味がありません。そのため、真空ポンプには振動低減が強く要求されています。

用 途

  • ■ EUV露光装置をはじめとする次世代半導体製造装置
  • ■ 高精度・高性能な電子顕微鏡、分析装置、計測装置など

TG-MLシリーズの振動特性

  • ■ ポンプ本体の振動値を1nm以下に抑えることに成功!  ※弊社測定方法による
  • ■ 専用防振ダンパーを装着して、更に一桁振動値を低減!

仕 様

  TG390ML TG420ML TG900ML TG1300ML
吸気口フランジ
VG100 VG150 VG150 VG200
CF100 CF160 CF160 CF200
ISO-B100 ISO-B160 ISO-B160 ISO-B200
排気速度 (L/s)
N2
340 400 900 1300
(保護金網付) N2
320 370 860 1230
 H2
290 300 1050 1200
最大圧縮比
N2
1×108
H2
4.5×103 1.5×104
到達圧力
VG・ISO-B/CF (Pa)
< 1×10-6/< 1×10-7
VG・ISO-B/CF (Torr)
< 7.5×10-9/< 7.5×10-10
起動時間 (min)
2-3 4-5
停止時間 (min)
4-5
許容補助圧力
(Pa)
400 500
(Torr)
3 3.8
推奨補助ポンプ (L/min)
≧160 ≧250
質量 (kg) VG・ISO-B/CF
14/17 34/42
ターボコントローラ型式
TC010MA